钼靶材

特点

高纯度、高致密度、晶粒尺寸、结晶方向、导热导电

（1）钼靶材的纯度越高，溅射薄膜的性能越好。一般钼溅射靶材的纯度至少需求达到99.95%。

（2）溅射镀膜的过程中，致密度较小的溅射靶受炮击时，由于靶材内部孔隙内存在的气体突然开释，形成大尺度的靶材颗粒或微粒飞溅，或成膜之后膜材受二次电子炮击形成微粒飞溅，这些微粒的出现会降低薄膜质量。为了削减靶材固体中的气孔，进步薄膜性能，一般要求溅射靶材具有较高的致密度。对钼溅射靶材而言，其相对密度应该在98%以上。

（3）一般钼溅射靶材为多晶结构，晶粒大小可由微米到毫米量级。细微尺度晶粒靶的溅射速率要比粗晶粒快，而晶粒尺度相差较小的靶，淀积薄膜的厚度散布也较均匀。

（4）由于溅射的靶材原子简单沿原子六方严密排列方向择优溅射出来，因而，为达到溅射速率，常通过改变靶材结晶结构的方法来增加溅射速率。靶材的结晶方向对溅射膜层的厚度均匀性影响也较大

（5）一般钼溅射靶材溅射前有必要与无氧铜底盘衔接在一起，使溅射过程中靶材与底盘的导热导电状况良好。绑定后有必要通过超声波查验。

性能

钼靶材的性能与其原材料（纯钼或钼合金）相同。钼是一种主要用于钢铁的金属元素，工业氧化钼压制后大部分直接用于炼钢或铸铁，少量钼冶炼成钼铁或钼箔后再用于炼钢。它可以提高合金强度、硬度、可焊性和韧性，以及耐高温和耐腐蚀性。

应用

钼靶材可以在衬底上形成薄膜，广泛应用于电子元器件和电子产品，集成电路、信息存储、液晶显示屏、激光存储器、电子控制器件；也可应用于玻璃镀膜域；还可以应用于耐磨材料、高温腐蚀、装饰用品等行业。

生产工艺流程图

迈腾是专业的钼靶材厂家，作为钨/钼/钽/锆靶材制造商，我们的产品远销海内外，如有需求，欢迎下单咨询。